2025-05-10  星期六
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当前位置: 产品介绍>半导体专用设备
PE/LP CVD化学气相淀积设备
*对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作等实现自动控制。
*具有完善的报警功能及安全互锁装置。
*具有良好的人机界面,灵活的工艺性能。
*具有良好的工艺性能,使用范围广泛。
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技术参数
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