L4513-3扩散炉

一、简介     

    扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

       扩散炉由控制系统、进出舟系统、炉体加热系统和气体控制系统等组成。控制部分包括：温控器、功率部件、超温保护部件、系统控制。系统控制部分有四个独立的计算机控制单元，分别控制每层炉管的推舟、炉温及气路部分，是扩散/氧化系统的控制中心。辅助控制系统，包括推舟控制装置、保护电路、电路转接控制、三相电源指示灯、照明、净化及抽风开关等。

二、产品特点： 
◆主机为水平一至四管炉系统构架，独立完成不同的工艺或相同工艺 
◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制 
◆采用悬臂送片器：操作方便、无摩擦污染等 
◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性 
◆工艺管路采用进口阀门管件组成气密性好、耐腐蚀、无污染

◆控温精度高，温区控温稳定性好； 
◆具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能 
三、L4513-3扩散炉主要技术指标 

1、石英管直径：￠120 ， 3管单管

2、工艺规格：4寸硅片

3、工作温度：200-1100℃

4、恒温区长度：600mm

5、升温速率：15℃/分

6、升温功率：小于10KW

7、保温功率：小于5KW

8、外形尺寸：2000MM×600 MM×1400MM

9、重量：600Kg
10、工作台：有净化/无净化 
11、工艺气路：对应的工艺气路，气路阀门组件采用国际优质品牌产品

1、石英管直径：￠120 ， 3管单管

2、工艺规格：4寸硅片

3、工作温度：200-1100℃

4、恒温区长度：600mm

5、升温速率：15℃/分

6、升温功率：小于10KW

7、保温功率：小于5KW

8、外形尺寸：2000MM×600 MM×1400MM

9、重量：600Kg
10、工作台：有净化/无净化 
11、工艺气路：对应的工艺气路，气路阀门组件采用国际优质品牌产品